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Shanghai IDE Investissement Directs Etrangers Chine

  Shanghai

Au cours de la dernière décennie, l’IDE (Investissement Directs Etrangers) de Shanghai a augmenté rapidement avec un taux du 36%, 10% plus élevé que dans l’ensemble de la Chine. Le taux d’augmentation à Shanghai a été le sommet depuis des nombreuses années. En 2005, le IED de Shanghai représenté le 19,3% du total des actifs des entrées immobilisés.

Le FID (Foreign Investment Development Board ) a été approuvé par le gouvernement municipal de Shanghai et établie le 27 décembre 1999. Le FID, est un organisme de promotion des investissements et une fenêtre pour Shanghai.

Les entreprises étrangères investisseureuses et le s entreprises étrangères qui ont leurs organisations établies dans le territoire chinois qui se sont engagés dans la production et le commerce sont assujettis à l’impôt sur les sociétés à un taux du 30% et l’impôt local sur les revenus à un taux du 3%.

SIEMENS sur SHANGHAI. Au cours des deux prochaines années, Siemens va investir environ 70 millions d’euros dans la construction d’un siège régional à Shanghai. Le centre sera appelé Siemens Center Shanghai (SCS) et servira la région orientale de la Chine. L’objectif est de regrouper toutes les areas commerciaux des bases de Siemens à Shanghai dans la SCS à la fin du 2008.

La coopération entre Siemens et la Chine a commencé dès 1872. La première présentation de Siemens à la Chine a été du pointeur télégraphe, en commencent ainsi le début du développement modern de la télécommunication à la Chine. La rapide expansion des relations d’affaires entre Siemens et la Chine a incité à établir son premier bureau dans la ville de Shanghai en 1904.

Ceci a été le début d’une importante étape dans l’engagement de la société en Chine et a marqué le début Siemens pour devenir le bien-aimé et respectable citoyen corporatif en Chine. En 1994, après plusieurs coopérations fructueuses, Siemens fonde Siemens Ltd.. Siemens Shanghai, avec 13,000 employés, est le plus grand emplacement dehors de l’Allemagne.